化工行業中的超純水主要應用于電池行溶劑用水、化學分析、化工材料、產品清洗、物質的分離、濃縮、提純，廢物回收等場合，對于水質要求相對來說不是太高，純水電導率從0.1uS/cm-20uS/cm就基本上能滿足要求。我們公司可根據客戶對水質的具體要求，采用反滲透，EDI等超純水生產工藝的不同組合，生產出即經濟實用，又能滿足客戶要求的化工行業超純水設備。

線路板清洗超純水設備*工藝：采用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

電鍍行業純水設備包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環利用廢水*系統。通常系統由超濾裝置，反滲透裝置，離子交換裝置，EDI裝置等組合而成，以滿足電鍍行業對水質的要求。

光電行業清洗超純水設備出水水質*符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

二級反滲透加EDI超純水設備控制系統： 整套系統系統有兩種運行模式：手動與自動模式； 原水箱缺水時，整個系統不能工作； 純水箱滿水時，整個系統停止工作； 反滲透每運行2小時（可自行設定）自動沖洗一次； 純水箱缺水EDI系統不能工作； 超純水箱滿水時，EDI膜堆停止工作； EDI膜堆受EDI濃水流量開關控制，流量達不到要求時，EDI膜堆自動停機； 自來水缺水時可以自動補水。